1辽宁11选五开奖:LDW-T系列

發布日期:2016-2-25
高精度專業級無掩膜直寫光刻設備
應用于大規模集成電路掩膜版制作、IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、觸摸屏等加工
高精度工作平臺,可實現8英寸的基底尺寸(可擴展)
配備高精度套刻和背面對準功能
高產能曝光
可接受客制化訂制